藍(lán)景科技 電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀的抗干擾與背景校正能力

復(fù)雜基質(zhì)中的光譜重疊、基體效應(yīng)和背景漂移是ICP-OES定量誤差的主要來源。藍(lán)景科技ICP-OES通過多維干擾校正策略與實(shí)時(shí)背景扣除技術(shù)，構(gòu)建了從硬件到軟件的全鏈路抗干擾體系。

在硬件層面，高分辨率光柵（最高4320線/mm） 提供0.004 nm光學(xué)分辨率，有效分離相鄰譜線。例如，V 292.402 nm與Fe 292.398 nm間距僅0.004 nm，普通儀器難以分辨，而該設(shè)備可清晰分離，避免鐵對釩的正干擾。

在軟件層面，系統(tǒng)集成多種校正算法：

• 標(biāo)準(zhǔn)加入法：適用于強(qiáng)基體效應(yīng)樣品（如生物組織、土壤提取液）；

• 內(nèi)標(biāo)法（Sc、Y、In等）：補(bǔ)償進(jìn)樣波動(dòng)與等離子體漂移；

• 歸一系數(shù)法：用于合金成分快速半定量；

• 實(shí)時(shí)背景雙點(diǎn)/三點(diǎn)扣除：在目標(biāo)譜線兩側(cè)自動(dòng)選取無干擾點(diǎn)擬合背景曲線，消除連續(xù)背景或?qū)拵Х肿訋Ц蓴_。

尤為突出的是全譜同步采集能力。每次測量記錄完整光譜（165–850 nm），用戶可在事后回溯查看任意波長區(qū)域，評估潛在干擾。例如，在分析含高濃度Ca的奶粉樣品時(shí)，發(fā)現(xiàn)Sr 460.733 nm受Ca 460.729 nm輕微重疊，軟件自動(dòng)啟用鄰近無干擾線Sr 407.771 nm進(jìn)行復(fù)核，確保結(jié)果準(zhǔn)確。

某第三方檢測機(jī)構(gòu)在參與能力驗(yàn)證時(shí)，面對含高鹽高鈣的模擬廢水，憑借該系統(tǒng)的抗干擾能力，所有上報(bào)數(shù)據(jù)Z值均在±1以內(nèi)，一次性通過CNAS審核。這證明其不僅“能測"，更能“測準(zhǔn)"。